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      《增城區促進集成電路產業發展扶持辦法》政策解讀

      發布時間: 2021-01-07 11:13
      來源: 增城區科工商信局 字體大小:

      《增城區促進集成電路產業發展扶持辦法》政策解讀


              一、文件編制背景和依據

        為加快培育發展我區集成電路產業,根據《新時期促進集成電路產業和軟件產業高質量發展的若干政策》、《廣東省加快半導體及集成電路產業發展的若干意見》、《廣東省培育半導體及集成電路戰略性新興產業集群行動計劃(2021-2025年)》、《廣州市加快發展集成電路產業的若干措施》等有關有關文件要求,我局結合我區實際,制定《增城區促進集成電路產業發展扶持辦法》。

        二、文件出臺和實施的目標

        引進和培育發展一批集成電路產業鏈項目,促進集成電路產業人才集聚,擴大集成電路市場規模,初步構建較為完善的集成電路產業集群,助力廣州建設全國集成電路產業集聚區、人才匯聚地、創新示范區。

        三、文件扶持對象

        適用于注冊地、經營場所均在增城區,具有獨立法人資格,無違法違規行為,按照國民經濟行業分類,主營業務為集成電路領域設計、制造、封測、裝備和材料生產及研發,公共技術服務等經營活動的集成電路相關企業。

        四、文件亮點和特色

        (一)健全完善產業鏈條。一是支持項目引進。對新引進的設計、裝備和材料類企業按企業實繳資本的5%給予獎勵,最高不超過300萬元。對新引進的制造、封測類企業按照企業落戶當年完成固定資產投資額的10%給予獎勵,最高不超過500萬元。二是支持項目落地。對企業購買EDA設計工具軟件、采購公共服務平臺設計服務或利用公共服務平臺使用EDA設計工具軟件的,按照實際發生費用的50%給予補貼,每家企業每年最高不超過200萬元。對首次完成全掩膜流片的企業,按流片費用30%,給予每家企業每年不超過500萬元的補貼;對于使用MPW(多項目晶圓)流片進行研發的企業,按MPW直接費用的80%,給予每家企業每年不超過500萬元的補貼。對企業開展工程片、設備、材料的可靠性、兼容性測試驗證、失效分析以及認證等,按實際發生費用的50%給予補貼,每家企業每年最高不超過200萬元。三是支持項目經營。對設計、裝備和材料類企業年度主營業務收入首次突破2000萬元、5000萬元、1億元、5億元的,分別給予最高不超過50萬元、100萬元、200萬元、300萬元的一次性獎勵。對制造、封測類企業年度主營業務收入首次突破5000萬元、1億元、5億元、10億元的,分別給予最高不超過80萬元、150萬元、200萬元、300萬元的一次性獎勵。

        (二)提升產業創新水平。一是支持研發投入,按研發投入的3%給予每家企業每年最高500萬元補貼,對開展核心技術和產品攻關的,按研發投入的10%給予每家企業每年最高1000萬元補貼。二是支持平臺建設,按平臺固定資產投入的40%給予獎勵,每家獎勵最高不超過2000萬元。三是支持人才培育。對當年主營業務收入達到5000萬元、1億元、10億元且實現正增長的集成電路企業,分別給予最高10個、20個、30個高管和產業高端人才獎勵名額,獎勵標準按人才本人地方經濟貢獻的80%,每人每年最高300萬元。對企業開展技能培訓按照實際發生費用的30%補貼,單個企業每年最高不超過50萬元。

        (三)全面保障生產要素。一是保障辦公用地。對租用場地按每平方米補貼實際租金的50%,最高補貼3000平方米,補貼期限3年,每家企業每年最高補貼100萬元。對購置場地按購買自用建筑物費用的10%一次性給予補貼,補貼金額最高不超過500萬元。二是保障生產用電保障。按照“先交后補”的方式,給予用電費用20%的補貼,每家企業每年最高不超過500萬元。三是保障項目建設。積極爭取國家、省、市集成電路產業基金以及政策性銀行對我區集成電路重大項目的資金支持,推動我區集成電路重大項目列入省重點建設項目計劃、市重點建設項目和全市“攻城拔寨、落地生根、開花結果”工作范疇,推進項目加快建設。

        五、專業名詞解釋

        集成電路:采用特定的生產工藝,把電路中所需的晶體管、電阻、電容和電感等元件及布線互連一起,制作在半導體晶片或介質基片上,并封裝在一個管殼內,成為具有所需電路功能的微型電子器件或部件。

        EDA電子設計自動化,是指設計者在EDA軟件平臺上用硬件描述語言完成設計文件,由計算機自動地完成邏輯編譯、化簡、分割、綜合、優化、布局、布線和仿真,實現對于特定目標芯片的適配編譯、邏輯映射和編程下載等功能。

        MPW多項目晶圓,指將多個使用相同工藝的集成電路設計放在同一晶圓片上流片,制造完成后,每個設計可以得到數十片芯片樣品。

        Full Mask全流程掩膜,Full Mask是集成電路的一種流片(將設計結果交出去進行生產制造)方式,即制造流程中的全部掩膜都為某個設計服務。

        IP指可以重復使用的具有自主知識產權功能的集成電路設計模塊。


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